Gemeinsame Vakuumterminologie11

1. Beschichtungswinkel: Der Winkel zwischen der Richtung der auf das Substrat einfallenden Partikel und der Normalen der plattierten Oberfläche.
2. Vakuumsputtern: Im Vakuum bombardieren Inertgasionen Atome (Moleküle) oder Cluster von der Zieloberfläche.
3. Ionenstrahl-Sputtern: Das Target wird durch einen Ionenstrahl gesputtert, der aus einer speziellen Ionenquelle stammt.
4. Glimmentladungsreinigung: Basierend auf dem Prinzip der Glimmentladung wird die Oberfläche von Substrat und Film durch Gasentladungsbombardement gereinigt. China Hersteller von dekorativen Vakuumbeschichtungsmaschinen
5. Physikalische PVD-Dampfabscheidung: Im Vakuum wird das Beschichtungsmaterial durch physikalische Methoden wie Verdampfung oder Sputtern verdampft und auf dem Substrat abgeschieden.
6. Chemische Gasphasenabscheidung durch CVD: Ein Verfahren zur Abscheidung neuer Filmmaterialien auf Substraten durch dampfchemische Reaktionen reagierender Gase mit einem bestimmten chemischen Verhältnis unter bestimmten Aktivierungsbedingungen (normalerweise bei einer bestimmten hohen Temperatur).